ASML·미국 규제 속 28nm 기술력 확보

중국 자력으로 28nm 반도체 생산 길 열어

미국 중국 일본 인도 달려나갈 때

반도체특별법 좌초,한국만 뒤처지는 현실

반도체 업계에 보조금과 세제 혜택·인프라스트럭처를 지원하는 것을 골자로 한 ‘반도체특별법’의 연내 처리가 사실상 물건너 갔습니다. 국회는 26일 본회의를 열어 약 20개에 달하는 비쟁점 법안을 통과시켰는데요. 하지만 반도체특별법은 논의조차 하지 않았습니다. ‘반도체 패권 경쟁’이 치열해지고 있는 가운데,한국만 또 다시 멈춰선 대목입니다. 이런 가운데 중국은 정부의 대대적 지원에 힘입어 메모리와 파운드리 뿐 아니라 반도체 장비에서도 전열을 가다듬고 있습니다. 대조를 이루고 있는 대목입니다.

대표적인 기업이 상하이 마이크로 일렉트로닉스 장비 그룹(SMEE)입니다. 27일 글로벌 반도체 업계에 따르면,SMEE는 이달 28nm(1나노미터는 10만분의1 에 해당) 리소그래피 장비 ‘SSA/800-10W’를 출시한다는 방침입니다. 노광을 뜻하는 리소그래피(lithography) 장비인데요. 실리콘 웨이퍼에 매우 미세한 회로 패턴을 새기는 핵심 장비입니다. 반도체 설계에서는 없어서는 안 될 기계입니다. 28nm는 현재 첨단 공정(7nm,5nm,3nm)보다는 구형 기술로 간주됩니다. 하지만 여전히 수많은 공정에서 사용 중인데요. 이는 중국이 공정 장비를 외국 기술에 의존하지 않고 독자적으로 생산할 능력을 확보했다는 것을 시사합니다. 한 반도체 업계 관계자는 “ASML의 심자외선(DUV)·극자외선(EUV) 기술보다는 뒤처져 있다”면서도 “하지만 중국 반도체 산업이 상당히 도약한 것을 시사한다”고 말했습니다